瀏覽次數(shù)：92發(fā)布日期：2023-04-25 08:44:08
退火爐是半導體設(shè)備制造中使用的一種過程，包括加熱多個半導體晶片，以影響其電氣性能。熱處理是為不同的效果而設(shè)計的。加熱晶片激 活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)化為薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)化為晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜改變生長膜的狀態(tài)，修 復注射損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶片襯底。
退火爐可集成到其他爐子處理步驟中，如氧化或自行處理。退火爐由專門為加熱半導體晶片而設(shè)計的設(shè)備完成。退火爐為節(jié)能周期式工作爐，超節(jié)能結(jié)構(gòu)，采用纖維結(jié)構(gòu)，節(jié)能百分之六十。
根據(jù)熱源分類，退火爐主要包括電熱爐、燃煤退火爐、燃油退火爐、天 然氣退火爐、燃氣退火爐等，其中自備燃氣發(fā)生爐生產(chǎn)的燃氣退火爐應用為廣泛。氣體退火窯減去燃燒室，直接用氣體燃燒器在加熱室噴射燃燒。為了降低能耗，氣體退火窯經(jīng)常配備熱交換系統(tǒng)，將空氣轉(zhuǎn)化為燃燒熱空氣。
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